Вольфрамовый лист 0,4 мм ВА в Миассе

Толщина 0.05 мм оптимальна для фольги, используемой в качестве источника для вакуумного испарения. Тонкий лист обеспечивает быстрый и равномерный нагрев, эффективное испарение вольфрама для создания тонких пленок, а также минимальную термическую инерцию системы.

Поведение листа ВА и ВД в расплаве солей схоже, так как оба являются чистым вольфрамом. Они проявляют хорошую стойкость к нейтральным расплавам солей, но могут подвергаться коррозии в расплавах окисляющих солей или щелочных карбонатов при высоких температурах.

Поверхностная обработка, такая как полировка или травление, критически влияет на применение листа ВР-27ВП в качестве подложки. Она обеспечивает необходимую чистоту, плоскостность и шероховатость поверхности для равномерного осаждения пленок и адгезии, что важно для полупроводниковой и оптической промышленности.

Толщина 0.1 мм значительно повышает гибкость вольфрамового листа по сравнению с 1.5 мм. Меньшая толщина обеспечивает большую податливость материала к изгибам и формовке, что критично для применений, требующих высокой пластичности и малых радиусов изгиба.

Гладкость и чистота поверхности листа существенно повышают его коррозионную стойкость в высокотемпературных жидких металлах. Шероховатости, дефекты или наличие окислов могут способствовать смачиванию и последующей эрозии или растворению материала.

Хрупкость вольфрамового листа толщиной 2.0 мм при изгибе при комнатной температуре приводит к его растрескиванию или разрушению. Для формовки или изгиба требуется предварительный нагрев до температуры выше хрупко-вязкого перехода (обычно > 400°С).

Точная плотность вольфрамового листа ВД при 25°С составляет приблизительно 19.25 г/см³. Это одна из самых высоких плотностей среди всех металлов, что обеспечивает его высокую эффективность в экранировании излучения и как материал с большой массой на единицу объема.