Вольфрамовый лист 40х1000х1500 мм ВА в Миассе

Пластичность листа ВА значительно возрастает при нагреве до 1800°С. Эта температура превышает температуру хрупко-вязкого перехода вольфрама, что позволяет проводить эффективную высокотемпературную формовку и обработку материала.

Преимущества применения вольфрамового листа в качестве мишеней для ионной имплантации заключаются в его высокой плотности, высоком атомном номере и высокой температуре плавления. Эти свойства обеспечивают эффективное торможение ионов, минимизируют распыление и позволяют работать с высокими токами.

Лист ВД используется в химической промышленности для элементов реакторов, работающих в высокотемпературных и агрессивных средах. Он обеспечивает исключительную коррозионную стойкость и химическую инертность для компонентов, контактирующих с расплавленными металлами, галогенами или газами.

Промышленные стандарты предусматривают требования к температуре отжига вольфрамового листа (например, 1000-1400°С для снятия напряжений или 1500-2000°С для рекристаллизации). Также указываются время выдержки и тип атмосферы (вакуум, водород или инертный газ) для достижения требуемой микроструктуры.

Поверхностная обработка, такая как полировка или травление, критически влияет на применение листа ВР-27ВП в качестве подложки. Она обеспечивает необходимую чистоту, плоскостность и шероховатость поверхности для равномерного осаждения пленок и адгезии, что важно для полупроводниковой и оптической промышленности.

Использование листа ВР-20 значительно повышает надежность оборудования в условиях высоких температурных и механических нагрузок. Добавка рения улучшает пластичность, сопротивление ползучести и термическому удару, снижая риск преждевременного отказа компонентов.

Лист ВР-27ВП, несмотря на улучшенные свойства, имеет недостаток в высокой стоимости материала и сложности крупномасштабного производства. Это делает его менее экономичным для изготовления очень больших компонентов, требуя специализированных методов обработки для достижения высокой точности.